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ASML registra un trimestre récord de 13.060 millones de dólares mientras la demanda de chips de IA supera su capacidad

Los ingresos del tercer trimestre de 2026 de ASML crecieron un 55% hasta un máximo histórico, y la neerlandesa advirtió de que sus planes de producción podrían quedarse cortos frente a la demanda de los clientes en 2027 y 2028.

Ilustración de una gran máquina de litografía en una sala limpia, con un haz de luz atravesando su óptica.
Foto: A ansems / Wikimedia Commons, Public domain

ASML, el fabricante neerlandés de equipos de litografía para la fabricación de chips, informó el 15 de octubre de 2026 de los mayores ingresos trimestrales de su historia. Las ventas del tercer trimestre de 2026 alcanzaron los 13.060 millones de dólares (11.660 millones de euros), un 55% más que un año antes y un 25% más que en el trimestre anterior, ya que el gasto en infraestructura de IA empuja la demanda de sus máquinas por encima de lo que puede fabricar.

El margen bruto alcanzó un récord del 57,5%, el beneficio operativo fue de 5.790 millones de dólares y el beneficio neto, de 5.560 millones. La compañía vendió 121 sistemas de litografía en el trimestre, 113 nuevos y 8 reacondicionados. Diecisiete fueron herramientas EUV, las máquinas necesarias para los chips más avanzados, que generaron 4.590 millones de dólares en ingresos.

Los fabricantes de chips lógicos representaron el 54% de los ingresos por equipos y los fabricantes de memoria, el 46%. Por región, Taiwán lideró con un 32%, seguido de Corea del Sur con un 31%, China con un 23% y Estados Unidos con un 13%.

Una demanda que se extiende hasta 2030

El director financiero, Roger Dassen, afirmó que ASML prevé que sus planes de producción actuales no cubrirán todas las necesidades de los clientes en 2027 y 2028. El consejero delegado, Christophe Fouquet, señaló que los acuerdos de suministro a largo plazo dan a los clientes una visibilidad más clara de la demanda futura. ASML está aceptando pedidos para entrega en 2028, y algunos clientes estudian pedidos para 2029 y 2030.

La compañía espera enviar unos 65 sistemas EUV de bajo NA en 2026, frente a los 44 de 2025. Los planes anteriores preveían un aumento de capacidad del 30% en 2027 y un posible 30% adicional en 2028, lo que implica unas 85 y 110 unidades EUV al año; ASML ahora contempla ir más allá de esas cifras para 2028. También está aumentando el rendimiento: el Twinscan NXE:3800F, previsto para principios de 2027, procesará 260 obleas por hora frente a las 230 del NXE:3800E, y una nueva herramienta DUV para capas críticas apunta a hasta 330.

Alto NA, precios y China

Intel afirma que ha procesado más de un millón de obleas en herramientas de alto NA y prevé usarlas para su proceso 14A en 2028. Samsung pretende adoptar el alto NA para DRAM en 2028, mientras que el calendario de TSMC se extiende hasta 2030-2031. ASML asegura que la disponibilidad de su parque instalado de alto NA se acerca al 90%.

ASML ha completado las negociaciones con los principales clientes sobre precios basados en el valor; Dassen indicó que el efecto se notará en parte en 2027 y de forma más visible a partir de 2028. Pese a las restricciones de exportación de Estados Unidos, se espera que China represente alrededor del 20% de los ingresos de 2026, unos 8.800-9.000 millones de euros.

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