AIHere

ASML تسجل إيرادات قياسية بقيمة 13.06 مليار دولار مع تجاوز الطلب على الرقائق للإمكانات الإنتاجية

قفزت إيرادات ASML في الربع الثالث من عام 2026 بنسبة 55% إلى مستوى قياسي، وحذرت الشركة الهولندية من أن خطط إنتاجها قد لا تكفي لتلبية طلب العملاء في عامي 2027 و2028.

رسم توضيحي لآلة طباعة حجرية ضخمة داخل غرفة نظيفة، مع شعاع ضوء يمر عبر بصرياتها.
صورة: A ansems / Wikimedia Commons, Public domain

أعلنت ASML، الشركة الهولندية المصنعة لمعدات الطباعة الحجرية المستخدمة في صناعة الرقائق، في 15 أكتوبر 2026 عن أعلى إيرادات ربعية في تاريخها. وبلغت مبيعات الربع الثالث من عام 2026 نحو 13.06 مليار دولار (11.66 مليار يورو)، بارتفاع 55% على أساس سنوي و25% مقارنة بالربع السابق، إذ تدفع الاستثمارات في البنية التحتية للذكاء الاصطناعي الطلب على آلاتها إلى ما يفوق قدرتها على التصنيع.

بلغ هامش الربح الإجمالي مستوى قياسياً بلغ 57.5%، فيما وصل الربح التشغيلي إلى 5.79 مليار دولار، وصافي الربح إلى 5.56 مليار دولار. وباعت الشركة 121 نظام طباعة حجرية في الربع، منها 113 جديداً و8 مجددة. وكان 17 منها أنظمة EUV، وهي الآلات اللازمة لإنتاج أكثر الرقائق تقدماً، وحققت إيرادات بلغت 4.59 مليار دولار.

شكّلت شركات رقائق المنطق 54% من إيرادات المعدات، فيما شكّلت شركات الذاكرة 46%. وجغرافياً، تصدّرت تايوان بنسبة 32%، تلتها كوريا الجنوبية بنسبة 31%، ثم الصين بنسبة 23%، والولايات المتحدة بنسبة 13%.

طلب ممتد حتى عام 2030

قال الرئيس المالي روجر داسن إن ASML تتوقع أن خطط إنتاجها الحالية لن تغطي كامل احتياجات العملاء في عامي 2027 و2028. وأشار الرئيس التنفيذي كريستوف فوكيه إلى أن اتفاقيات التوريد طويلة الأجل تمنح العملاء رؤية أوضح للطلب المستقبلي. وتقبل ASML طلبات للتسليم في عام 2028، فيما يدرس بعض العملاء طلبات للتسليم في عامي 2029 و2030.

تتوقع الشركة شحن نحو 65 نظام EUV من نوع Low-NA في عام 2026، مقارنة بـ44 نظاماً في عام 2025. وكانت الخطط السابقة تستهدف زيادة الطاقة الإنتاجية بنسبة 30% في 2027، واحتمال زيادة أخرى بنسبة 30% في 2028، أي ما يقارب 85 و110 وحدات EUV سنوياً، لكن ASML تدرس الآن تجاوز ذلك في 2028. كما ترفع الشركة معدل الإنتاجية: فجهاز Twinscan NXE:3800F، المقرر طرحه مطلع 2027، سيعالج 260 رقاقة في الساعة مقابل 230 لجهاز NXE:3800E، وتستهدف أداة DUV جديدة للطبقات الحرجة تحقيق ما يصل إلى 330 رقاقة.

High-NA والتسعير والصين

تقول Intel إنها شغّلت أكثر من مليون رقاقة على أدوات High-NA وتخطط لاستخدامها في عملية 14A عام 2028. وتسعى Samsung لاعتماد تقنية High-NA في ذاكرة DRAM عام 2028، بينما يمتد جدول TSMC الزمني حتى 2030-2031. وتقول ASML إن توافر أسطول High-NA المركّب لديها يقترب من 90%.

أنهت ASML مفاوضات مع كبار العملاء بشأن التسعير القائم على القيمة؛ وقال داسن إن أثر ذلك سيظهر جزئياً في 2027 وبشكل أوضح ابتداءً من 2028. وعلى الرغم من قيود التصدير الأمريكية، يُتوقع أن تشكّل الصين نحو 20% من إيرادات 2026، أي ما يقارب 8.8 إلى 9 مليارات يورو.

#ASML#أشباه الموصلات#طباعة EUV الحجرية#البنية التحتية للذكاء الاصطناعي#الأرباح

التعليقات

يُرجى الاحترام. تُفحص التعليقات تلقائيًا، وتُحذف الرسائل المزعجة والإهانات والبيانات الشخصية. قد يجيب الذكاء الاصطناعي عن الأسئلة.

لا توجد تعليقات بعد. ابدأ النقاش أو اطرح سؤالًا.

ذو صلة